歡迎進(jìn)入蘇科斯(江蘇)半導體設備科技有限公司官網(wǎng)!

蘇科斯(江蘇)半導體設備科技有限公司

全國統一服務(wù)熱線(xiàn) 139 6265 8938

蝕刻銅(鈦)Etch Cu(Ti)
蝕刻銅(鈦)Etch Cu(Ti)
設備名稱(chēng)/型號:水平式銅(鈦)蝕刻設備
工藝簡(jiǎn)介:光刻膠覆蓋有效線(xiàn)路,通過(guò)腐蝕液將sputter金屬Cu種子層蝕刻掉,留下需要的線(xiàn)路
工藝流程:噴涂光刻膠—曝光—顯影—蝕刻-水洗-吹干
主要工藝參數:酸性蝕刻液25-40℃噴淋蝕刻銅,時(shí)間1-3min/pcs,蝕刻后需充分水洗,水洗壓力:0.8-1.5kg/cm2,時(shí)間2-4min/pcs,
應用領(lǐng)域
上一條:
沒(méi)有產(chǎn)品了
下一條:
沒(méi)有產(chǎn)品了

產(chǎn)品特點(diǎn)

友情鏈接: 槽式清洗機槽式去膠機

Copyright 2022 蘇科斯(江蘇)半導體設備科技有限公司 All Right Reserved. 蘇ICP備2022001688號-1